Number of the records: 1
Charakterizace optických tenkých vrstev pomocí optické emisní spektroskopie
Title statement Charakterizace optických tenkých vrstev pomocí optické emisní spektroskopie [rukopis] / Sabina Malecová Additional Variant Titles Charakterizace optických tenkých vrstev pomocí optické emisní spektroskopie Personal name Malecová, Sabina, (dissertant) Translated title Characterization of optical thin films by optical emission spectroscopy Issue data 2020 Phys.des. 68 s Note Ved. práce Pavel Tuček Ved. práce Radim Čtvrtlík Oponent Jan Tomáštík Another responsib. Tuček, Pavel, 1980- (školitel specialista) Čtvrtlík, Radim (thesis advisor) Tomáštík, Jan (opponent) Another responsib. Univerzita Palackého. Společná laboratoř optiky (degree grantor) Keywords Optická emisní spektroskopie * plazma * tenké vrstvy * chemické složení * naprašování * Optical emission spectroscopy * plasma * thin films * chemical composition * sputtering Form, Genre diplomové práce master's theses UDC (043)378.2 Country Česko Language čeština Document kind PUBLIKAČNÍ ČINNOST Title Mgr. Degree program Navazující Degree program Fyzika Degreee discipline Nanotechnologie book
Kvalifikační práce Downloaded Size datum zpřístupnění 00242737-431837815.pdf 27 4 MB 26.08.2020 Posudek Typ posudku 00242737-ved-608982318.pdf Posudek vedoucího 00242737-opon-226571390.pdf Posudek oponenta
Cílem této práce je využití optické emisní spektroskopie v doutnavém výboji k určení prvkového složení primárně tenkých vrstev nebo vícevrstvých systémů.Pomocí této techniky je možné získat hloubkové profily prvkového složení vodivých i nevodivých materiálů. Charakterizovány byly optické multivrstvy, kovové multivrstvy, hybridní anorganické vrstvy a ochranné TiN vrstvy. Pozornost byla zejména věnována nalezení optimalizace parametrů měření a získaní ideálních hloubkových profilů daných vrstev.The aim of this thesis is to use optical emission spectroscopy in glow discharge to determine the elemental composition of primarily thin films or multi-layer systems. By using this technique, it is possible to obtain depth profiles of the elemental composition of conductive and non-conductive materials. Optical multilayers, metal multilayers, hybrid inorganic layers and protective TiN layers were characterized. The afford has been devoted to finding the optimal measurement parameters and obtaining the ideal depth profiles of the layers.
Number of the records: 1