Tato diplomová práce se zabývá studiem vlivu podmínek depozičního procesu a následného teplotního zpracování na strukturu, optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev HfO2. Depozice vrstev probíhala napařováním elektronovým svazkem a napařováním elektronovým svazkem s iontově asistovanou depozicí (IAD). Teplotní zpracování proběhlo žíháním při různých teplotách ve vakuu a na vzduchu. Výše zmíněné studované vlastnosti byly stanoveny pomocí metod: RTG difrakce, nanoindentační zkoušky, vrypové zkoušky (scratch test), elipsometrie a AFM. Naměřené výsledky prokázaly vliv typu depozice a parametrů následného žíhání na strukturu, mechanické a optické vlastnosti tenkých vrstev z HfO2.This diploma thesis deals with study of influence of conditions of deposition process and subsequent thermal treatment on the structure, optical and mechanical properties of HfO2 thin films. The deposition of the films was carried out by e-beam evaporation and e-beam evaporation with ion beam assisted deposition (IAD) The heat treatment was carried out by annealing at various temperatures in vacuum and air. The above-mentioned properties were determined using the following methods: X-ray diffraction, nanoindentation tests, scratch tests, ellipsometry and AFM. The measured results showed the influence of deposition type and subsequent annealing parameters on the structure, mechanical and optical properties of HfO2 thin films.