Tato bakalářská práce je zaměřena na výpočet mřížkových parametrů, povrchových a elektronických vlastností disulfidu tantalu pomocí teorie funkcionálu hustoty v programu VASP. Dále se zabýváme prozkounmáním aktivity pro reakci za vývoje vodíku na hranách disulfidu niobu a diselenidu niobu, taktéž v programu VASPThis bachelor thesis is focused on the calculation of the lattice parameters, surface and electronic properties of tantalum disulfide using density functional theory methods in program package VASP, Furthermore, we investigate the hydrogen evolution reaction reactivity of the edges of niobium disulphide and niobium diselenide, also calculated in the programme VASP.