Cílem této práce je využití optické emisní spektroskopie v doutnavém výboji k určení prvkového složení primárně tenkých vrstev nebo vícevrstvých systémů.Pomocí této techniky je možné získat hloubkové profily prvkového složení vodivých i nevodivých materiálů. Charakterizovány byly optické multivrstvy, kovové multivrstvy, hybridní anorganické vrstvy a ochranné TiN vrstvy. Pozornost byla zejména věnována nalezení optimalizace parametrů měření a získaní ideálních hloubkových profilů daných vrstev.The aim of this thesis is to use optical emission spectroscopy in glow discharge to determine the elemental composition of primarily thin films or multi-layer systems. By using this technique, it is possible to obtain depth profiles of the elemental composition of conductive and non-conductive materials. Optical multilayers, metal multilayers, hybrid inorganic layers and protective TiN layers were characterized. The afford has been devoted to finding the optimal measurement parameters and obtaining the ideal depth profiles of the layers.