Number of the records: 1  

Fyzikální charakterizace optických tenkých vrstev

  1. Title statementFyzikální charakterizace optických tenkých vrstev [rukopis] / Lukáš Václavek
    Additional Variant TitlesFyzikální charakterizace optických tenkých vrstev
    Personal name Václavek, Lukáš (dissertant)
    Translated titlePhysical characterization of optical thin films
    Issue data2018
    Phys.des.62
    NoteVed. práce Radim Čtvrtlík
    Oponent Miroslav Pech
    Another responsib. Čtvrtlík, Radim (thesis advisor)
    Pech, Miroslav (opponent)
    Another responsib. Univerzita Palackého. Katedra experimentální fyziky (degree grantor)
    Keywords Oxid hafničitý (HfO2) * napařování elektronovým svazkem * iontově asistovaná depozice (IAD) * žíhání * nanoindentační zkouška * vrypová zkouška * tvrdost * redukovaný modul * index lomu * koeficient absorpce * Hafnium dioxide (HfO2) * e-beam evaporation * ion-assisted deposition (IAD) * annealing * nanoindentation test * scratch test * hardness * reduced modulus * refractive index * extinction coefficient
    Form, Genre diplomové práce master's theses
    UDC (043)378.2
    CountryČesko
    Languagečeština
    Document kindPUBLIKAČNÍ ČINNOST
    TitleMgr.
    Degree programNavazující
    Degree programFyzika
    Degreee disciplineAplikovaná fyzika
    book

    book

    Kvalifikační práceDownloadedSizedatum zpřístupnění
    00225116-835838744.pdf223.2 MB03.08.2018
    PosudekTyp posudku
    00225116-ved-872136534.pdfPosudek vedoucího
    00225116-opon-634539897.pdfPosudek oponenta

    Tato diplomová práce se zabývá studiem vlivu podmínek depozičního procesu a následného teplotního zpracování na strukturu, optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev HfO2. Depozice vrstev probíhala napařováním elektronovým svazkem a napařováním elektronovým svazkem s iontově asistovanou depozicí (IAD). Teplotní zpracování proběhlo žíháním při různých teplotách ve vakuu a na vzduchu. Výše zmíněné studované vlastnosti byly stanoveny pomocí metod: RTG difrakce, nanoindentační zkoušky, vrypové zkoušky (scratch test), elipsometrie a AFM. Naměřené výsledky prokázaly vliv typu depozice a parametrů následného žíhání na strukturu, mechanické a optické vlastnosti tenkých vrstev z HfO2.This diploma thesis deals with study of influence of conditions of deposition process and subsequent thermal treatment on the structure, optical and mechanical properties of HfO2 thin films. The deposition of the films was carried out by e-beam evaporation and e-beam evaporation with ion beam assisted deposition (IAD) The heat treatment was carried out by annealing at various temperatures in vacuum and air. The above-mentioned properties were determined using the following methods: X-ray diffraction, nanoindentation tests, scratch tests, ellipsometry and AFM. The measured results showed the influence of deposition type and subsequent annealing parameters on the structure, mechanical and optical properties of HfO2 thin films.

Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.