Počet záznamů: 1  

Fyzikální charakterizace optických tenkých vrstev

  1. Údaje o názvuFyzikální charakterizace optických tenkých vrstev [rukopis] / Lukáš Václavek
    Další variantní názvyFyzikální charakterizace optických tenkých vrstev
    Osobní jméno Václavek, Lukáš (autor diplomové práce nebo disertace)
    Překl.názPhysical characterization of optical thin films
    Vyd.údaje2018
    Fyz.popis62
    PoznámkaVed. práce Radim Čtvrtlík
    Oponent Miroslav Pech
    Dal.odpovědnost Čtvrtlík, Radim (vedoucí diplomové práce nebo disertace)
    Pech, Miroslav (oponent)
    Dal.odpovědnost Univerzita Palackého. Katedra experimentální fyziky (udelovatel akademické hodnosti)
    Klíč.slova Oxid hafničitý (HfO2) * napařování elektronovým svazkem * iontově asistovaná depozice (IAD) * žíhání * nanoindentační zkouška * vrypová zkouška * tvrdost * redukovaný modul * index lomu * koeficient absorpce * Hafnium dioxide (HfO2) * e-beam evaporation * ion-assisted deposition (IAD) * annealing * nanoindentation test * scratch test * hardness * reduced modulus * refractive index * extinction coefficient
    Forma, žánr diplomové práce master's theses
    MDT (043)378.2
    Země vyd.Česko
    Jazyk dok.čeština
    Druh dok.PUBLIKAČNÍ ČINNOST
    TitulMgr.
    Studijní programNavazující
    Studijní programFyzika
    Studijní oborAplikovaná fyzika
    kniha

    kniha

    Kvalifikační práceStaženoVelikostdatum zpřístupnění
    00225116-835838744.pdf223.2 MB03.08.2018
    PosudekTyp posudku
    00225116-ved-872136534.pdfPosudek vedoucího
    00225116-opon-634539897.pdfPosudek oponenta

    Tato diplomová práce se zabývá studiem vlivu podmínek depozičního procesu a následného teplotního zpracování na strukturu, optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev HfO2. Depozice vrstev probíhala napařováním elektronovým svazkem a napařováním elektronovým svazkem s iontově asistovanou depozicí (IAD). Teplotní zpracování proběhlo žíháním při různých teplotách ve vakuu a na vzduchu. Výše zmíněné studované vlastnosti byly stanoveny pomocí metod: RTG difrakce, nanoindentační zkoušky, vrypové zkoušky (scratch test), elipsometrie a AFM. Naměřené výsledky prokázaly vliv typu depozice a parametrů následného žíhání na strukturu, mechanické a optické vlastnosti tenkých vrstev z HfO2.This diploma thesis deals with study of influence of conditions of deposition process and subsequent thermal treatment on the structure, optical and mechanical properties of HfO2 thin films. The deposition of the films was carried out by e-beam evaporation and e-beam evaporation with ion beam assisted deposition (IAD) The heat treatment was carried out by annealing at various temperatures in vacuum and air. The above-mentioned properties were determined using the following methods: X-ray diffraction, nanoindentation tests, scratch tests, ellipsometry and AFM. The measured results showed the influence of deposition type and subsequent annealing parameters on the structure, mechanical and optical properties of HfO2 thin films.

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.