Míra zkreslení obrazu u běžných optických soustav se standardně pohybuje v řádu desetin procenta. U produktů polovodičového průmyslu je zkreslení kritickým parametrem a jeho hodnoty mohou dosahovat až jednotek tisícin procenta. To klade velké nároky na schopnost jeho měření. Pro vyhodnocení již nelze využít běžně používané postupy a je třeba hledat vhodné měřící metody, které kombinují pokročilé optické a numerické metody pro vyhodnocení obrazu. Cílem bakalářské práce bude vytvořit rešerši dostupných metod měření zkreslení se zaměřením na systémy navržené pro zobrazení z konečna do konečna. Úkolem praktické části bude vybrat vhodnou metodu s potenciálem pro měření zkreslení pod 0,01 % a experimentálně ověřit možnosti jejího použití v praxi.The value of distortion in conventional optical systems is normally in the order of tenths of a percent. For the products of the semiconductor industry is distortion critical parameter and its value can reach units thousandths percent. This places great demands on the ability of its measurement. Commonly used methods are no longer suitable. It is necessary to look for suitable measurement methods that combine advanced optical and digital methods for image evaluation. The aim of the thesis is to create a search of available methods of distortion measurement, focusing on systems designed for mapping from the finite to the final. The task of the practical part will choose the suitable method with the potential for distortion measurements below 0.01 % and experimentally verify the possibility of its use in practice.